中微公司 ICP 刻蚀设备 Primo nanova 第 100 台反应腔交付
文章来源：老铁seo
作者：老铁seo
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2021-06-14 06:30:20
13 日消息 从中微公司获悉，6 月 9 日，中微半导体设备（上海）股份有限公司在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备 Primo nanova 第 100 台反应腔交付客户庆祝仪式。
Primo nanova 是中微公司于 2018 年发布的第一代电感耦合等离子体刻蚀设备，采用了中微公司的电感耦合等离子体刻蚀技术。
中微公司表示，目前，Primo nanova 产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线，在逻辑芯片、DRAM 和 3D NAND 厂商的生产线上实现大规模量产。
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