信越化学拟砸2.85亿美元在日本、中国台湾设厂

据日经亚洲评论报道，日本信越化学公司(Shin-Etsu Chemical)将花费约300亿日元(2.85亿美元)，把半导体光刻胶的产能提高20%，以扩大高端芯片制造半导体关键材料的供应。

 

图源：日本信越化学

该报道指出，信越化学将在日本和中国台湾地区建厂。其中，中国台湾地区云林县的新厂预计在2021年2月开始投产可与极紫外线 (EUV) 光刻技术兼容的光刻胶，以满足台积电等苹果供应链台系客户的需求。

另外，其在日本新泻县的直越新厂将于2020年2月开始运行。随着员工人数的增加，中国台湾地区和日本的产能将分别提高60%和20%。

除了台系客户外，信越化学扩充产能也将满足韩国、中国大陆和其他市场的客户需求。

随着5G设备、数据中心和其他应用的芯片需求上升，光刻胶领域的需求日益旺盛。研究公司富士经济(Fuji Keizai)预计，2019年至2024年，光刻胶市场将增长60%，达到约2500亿日元。

鉴于此，信越化学的竞争对手JSR和Tokyo Ohka Kogyo(TOK) 也在日本和海外生产EUV光刻胶，住友化学(Sumitomo Chemical)和富士胶片(Fujifilm)也准备进入该领域。

日本公司总共占据了全球光刻胶市场的80%，单信越化学一家就占据了20%-30%的市场份额，该公司生产的光刻胶以高灵敏度和高效制成效率而闻名。

（校对/零叁）