来得太快了，不用EUV光刻机也能造7nm芯片，华为转机出现？

来得太快了，不用EUV光刻机也能造7nm芯片，华为转机出现？

 

自华为被美国禁令断供芯片后，国人希望我国自主芯片能尽快打破美国封锁，赶超先进，但我们也知道芯片生产的复杂性与难度，芯片制造历史比台积电还长的英特尔，在7nm芯片上也搞不好，新的芯片将给与台积电代工生产。

其次，芯片产业链需要协同进步，设计出先进的芯片给制造工厂，进行试验找出问题再解决，在不断试错中迭代。

 

我们本来有华为海思可以把设计的较先进的芯片给中芯国际试验，然而大家知道的原因，这方面也遇到了阻碍。新的制造工艺更可能要承担流片失败的风险，一次流片动辄花费几千万甚至上亿，一般较小的企业是不敢把先进的芯片设计交给制造企业试验新生产工艺的。

前些日子，中芯国际宣布已经将N+1工艺导入客户，后来传出一些消息，包括对中芯国际的原材料、设备，我们不知道对此有什么影响。

 

然而，来得太快了，据珠海特区报报道，中芯国际N+1工艺宣布流片成功，也就是说从制造到封装测试一站到底，成品芯片已经试产成功，意味着可以批量试产，明年有望量产。

根据中芯国际联席CEO梁孟松博士此前公布的信息显示，N＋1工艺和现有的14nm工艺相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。从逻辑面积缩小和功耗的数据来看，与7nm工艺接近。

 

在性能上比7nm工艺稍低一些，一般认为性能提高35%达到7nm制程芯片，不过中芯国际还有N+2工艺，主要在性能上将再次提高，应该能媲美7nm制程芯片了。

就是说，不用EUV光刻机，也能制造7nm芯片了，实际上，台积电也用DUV光刻机生产7nm芯片，只是工艺复杂，全球可能就一两家可以生产，中芯国际可能是第三家能生产7nm芯片的厂家。

七十多岁的张汝京博士还在为我芯片事业贡献力量

据报道，该芯片流片采用自主IP，那么华为的芯片转机出现了？当然也许报道说的是该芯片设计是采用自主IP，不管怎么说，对于我国芯片生态绝对是一件令人振奋的事情，之前是生产不出来。如今能生产了，再想卡脖子就难了，说不定老美也放开了，之前的经验就是我国能生产的他们马上开放。

 

即使说华为的高端手机还是有些难（包括产能），但华为的5G通信设备芯片包括5G应用，部分芯片是7nm制程，5G设备及应用对于华为，对于我国都是核心技术，无论如何都是必须要保证的。

这次流片成功，相信梁孟松博士功不可没，之前梁博士来了以后，中芯国际的14nm芯片良品率一下提升很多。我们希望无论是从我国台湾来的，海外归来的，或在是本土人才，越来越多的专心芯片事业，形成我国芯片肥沃的土壤，打破美国的封锁还会远吗？