中芯国际7nm芯片技术突破，不用EUV光刻机，也能完成制造

在现在的发展上说我们有更多的投入的，由于早期的一些发展不足，让我们落下其他国家很长的一段，而在现在的发展过程当中，我们也吃到了苦头。

 

但是想要缓解这样的局面，在技术领域的一些发展就是绝对不可以落后的，我们有着更多的一些科研人员投入就是为了不再重蹈这样的覆辙，而在现在的发展当中，其实这让科研人员头痛的就是我们在芯片制造发展上的一些进度。

这是对这所要求考虑非常严格的一个领域，稍微有一些差池就可能难以达到好的进展，再加上今年美国方面的一些限制也让我们在芯片领域的制造更加难以调控。

 

因为没其他国家技术支持，所以在自制上也就意味着我们想要有更好的发展，必须依靠于国产。

但是在芯片制造上我们最大的一个困难就是无法制造光刻机，那么能不能制造一些不需要光刻机的芯片呢？其实并不是不能突破，但是这也意味着需要更多的一些时间投入。

据中芯国际联席CEO梁孟松表示，中芯国际N+1工艺也许可以达到这样的效果，因为它是完全不同于传统的一些芯片制造的。

 

这样的芯片制造工艺的功耗、逻辑面积缩小数据都与7nm接近，并且对比于前一种传统的芯片来说降低57%与63%，在稳定性上N+1工艺也可与7nm相媲美，中企迎来了新突破。

虽然N+1工艺的性能提升为20%，总体而言中芯国际N+1工艺可以实现7nm芯片，这样的发展让国人有了更多的信心，并且更让人振奋。

 

芯片制造可以完全的利用EUV光刻机，也就是说如果真的能够实现的话，我们即使没有光刻机也能够完成芯片方面的制造。

这样的发展可以让我们完全的摆脱西方对于我们的芯片控制，国产芯片的有望破局让我们在这方面有了更多的信心了，至于之后的发展如何就此拭目以待。