ASML领先我国顶尖光刻机15年，但他却拥有3200项专利

　　芯片对电子产品是非常重要的，但我国芯片自给率却不足30%。据第三方数据显示，仅2019年我国芯片进口就突破千亿美元，成为世界第一芯片进口大国。国内手机出货量的增长，使得这个数字还在上升。

 

　　要改变这种状况，很多企业都投入到芯片行业中，但是我国的芯片设计虽然取得了很大的进步，但是在芯片制造方面却很难有突破，这主要是由于芯片制造对光刻机的依赖很强，而在光刻机领域，荷兰ASML是当之无愧的巨头。

　　只有荷兰的ASML能在全球范围内生产高端芯片，它不仅几乎垄断了全球高端光刻机市场，ASML生产的尖端光刻机也因数量有限而“价廉物美”。幸好，经过十多年的发展，我国光刻机行业又诞生了一个新的巨头。

 

　　上海微电子于2002年进入光刻机生产和研发领域，虽然落后ASML20年，但它却花费18年积聚了3200项专利，成功打破了技术封锁，制造了中国最先进的光刻机，垄断了中国大陆80%的市场。上海微电子公司已实现了90nm光刻机的生产。

　　尽管上海微电子90纳米技术仅相当于荷兰ASML15年前的水平，但已经成为国内领先技术。值得注意的是，尽管ASML光刻机技术先进，但一台光刻机却聚集了许多国家的智慧，比如美国的光学设备，德国的镜头。

 

　　即使是超过几万个部件，也主要依靠进口。上海微电子公司的光刻机生产设备却是自主研发与创新。此外，随着上海微电子技术的成熟，有消息称上海微电子将于2021年交付首台国产28纳米沉浸式刻蚀机。

 

　　即使是28纳米技术，与荷兰的ASML也存在着巨大的差距。但是，如果28纳米浸入式光刻机能够顺利交付，那将会给我们的芯片产业注入一剂强心剂。另外，上海微电子公司成立时间短，发展过程中不仅面临技术上的困难，而且资金上的困难。

　　今天能有这样的成就，已经非常罕见了，假如上海微电子一直保持这个发展速度，它与ASML的差距会迅速缩小，国产芯片的崛起指日可待。