光刻机进入3nm工艺，为什么国产光刻机18年，还在90nm？

我国在一些技术研制上的缺陷是非常明显的，由于早期的发展就比较晚，再加上后期资金方面及技术方面都难以跟上，所以这样的缺陷算是比较正常的，但是时代的发展是不会等任何一个国家，任何一个人。

 

我们在这方面的发展，没有其他国家好，所以就很容易被其他国家的技术所超越，在现在的发展当中，芯片制造是非常重要的一个环节，它也融入了现在的生活当中，智能化的所有体现都离不开它的出现，然而我国在这方面的制造上就比较差强人意了。

 

芯片的大量生产需要依靠光刻机来进行，一个总体的汇合，而我国的光刻机研制技术和其他国家的差距是非常大的，目前为止，世界上最高技术的光刻机可以到3纳米的芯片研制，但是我国的光刻机技术还停留在90纳米。

荷兰的光刻机研制是非常有优势的，他们也是目前来说最顶尖的一家制造公司，而我国在光刻机制造上，应该就是上海微电子最具有实力，上海微电子算是我国范围内早期发展光科技。

 

并且现在依然在研究的一家企业，他们在这方面经历了比较长时间的研制，但如果和荷兰相比的话，是有20年的差距的，即使一直在不断的追赶，但是在技术方面其实是更加困难，即使经过了18年，现在我们也停留在90纳米的光刻机制造上，那究竟是什么阻碍了我们的发展呢？

 

虽然说看数字的话差距比较大，但其实只有两代技术的差距，而我们受限制的这一技术就是浸润式光刻技术。

这一技术难以达到突破，就无法完成像上一级的一些芯片制造，也因为这一个原因让上海微电子落后了他们非常多的一个原因，所以要想有更多的一些技术突破必须在这一领域有所发展。

 

今年对于国内的芯片发展来说的阻碍是越来越多的，而关于这样的一些技术研制，现在也有多家企业的共同加入，相信也会比较快的，就能够让大家看到成效了。