众所周知,去年中芯国际已经量产14nm芯片了,这对于中国芯来讲,是一个绝对的好消息,毕竟目前14nm或以上工艺的芯片其实占了60%以上,只要能够量产14nm芯片就意味着能够生产60%以上的芯片了。
当然,这并不意味着能够生产14nm芯片就够了,毕竟中国是芯片消耗大国,消耗了全球三分之二以上的芯片,其中高端芯片也非常多,所以需要继续推进芯片制造技术。
而在芯片制造技术,最强的自然是台积电了,目前是7nm,据称4月份将采用5nm技术帮助苹果生产A14芯片了,而从5nm到14nm,中间可是隔了三代,至少是5年以上的差距的。
而随着芯片技术的越来越先进,很多人认为达到2nm可能就是芯片制造的极限了,如果技术不改变,2nm之后,台积电也无法前进了,那时候中国芯国际可能就会追上台积电了。
但是近日,台积电联手台湾交通大学成功研制出了一种全球最薄、厚度只有0.7纳米的基于氮化硼的超薄二维半导体绝缘材料。
按照说法,这种材料,有可能帮助半导体制造企业们,进一步开发出2纳米甚至1纳米制程的芯片,目前该成果发表在最近的《自然》期刊上。
至于其中的原理什么的,我们可以不用去看,毕竟一般人也看不懂,但这说明了,其实对于芯片制造来讲,也许是没有极限的,当遇到了一道坎时,努力去研究,说不定就能够跨过去,你觉得呢?
所以期待别的厂商达到顶峰,然后停在原地等我们来追,可能是不现实的,还是自己努力,靠技术赢下对手,才是正道啊,你觉得呢?

2020-03-26 23:16:58