三星掀半导体军备竞赛：斥巨资向ASML订购15台EUV设备

（观察者网讯）

在台积电宣布7纳米强效版及5纳米导入EUV（极紫外光）微影技术且量产后，近日三星决定向荷兰ASML订购15台EUV设备，此外英特尔、美光、海力士也规划采用EUV技术，导致僧多粥少，全球半导体行业掀起争抢EUV设备大战。

据《韩国先驱报》15日报道，为达成2030年成为全球第一半导体大厂的目标，并超越晶圆代工厂商台积电，抢占未来2到3年的5G商用化所带来的半导体市场需求，三星已向全球微影曝光设备大厂ASML订购15台先进EUV设备，价值3万亿韩元，约合181亿人民币，交付分三年进行。

报道截图

三星电子自2005年进入晶圆代工领域，目前已经7nm EUV技术已实现量产。三星计划，6nm制程在2019年下半年开始量产，5nm制程在2020年上半年量产，3nm制程预计在2021年进入量产。

而三星和台积电在先进制程的角逐一直进行，台积电日前已宣布，7纳米强效版制程领先业界导入EUV微影技术，并已协助客户产品大量进入市场，且2020年上半年量产的5纳米也将导入EUV制程。

另外，英特尔EUV计划的负责人Britt Turkot年中表示，EUV技术已经准备好，并且投入大量的技术开发。内存大厂美光、海力士也计划导入EUV技术。

尴尬的是，目前全球提供EUV设备的企业仅ASML一家，业界预估ASML一年仅能生产约30台EUV设备，在各大厂相继投入之下，形成设备机台一机难求，排队等设备现象。

ASML最新发布的第三季度财报中显示，该季度他们仅交付了7台EUV光刻机，但当季接到的订单已达23台，创造了历史记录，而三星此次订购则将消耗ASML近半年EUV设备产能。

据了解，由于EUV极短波长 13.5纳米具有强力光线的技术，能够更完美地解析先进制程的设计，减少芯片生产步骤及光罩层数，高速高频，对芯片微缩、低功耗要求高，成为延续摩尔定律重要技术。

不过，要驾驭如此复杂且昂贵的系统来制造大批芯片却是一件难事，三星虽最早宣布7纳米制程导入EUV，但先前即传出生产芯片良率及产量不足。

台积电表示，7纳米一开始未导入EUV，就是因为新技术导入制程需要经历一段学习曲线。台积电称，在7纳米强效版成功学习经验，未来可顺利导入5纳米制程。

数据显示，2019年Q3全球晶圆代工产业台积电以50.5%稳坐第一，而近年努力发展先进制程的三星电子以18.5%的市占率位居第二，但三星很显然不愿一直位居次席，一直在扩大半导体投资。

三星今年4月发布一项高达133万亿韩元的系统IC投资，其中60万亿韩元将用于晶圆代工设备投资。去年8月，三星曾发表3年180万亿韩元投资，其中90万亿到100万亿韩元将用于半导体设备。

业内人士透露，为了超越台积电，三星不仅会增加设备投资，还会通过提供技术竞争力来吸引客户。